拋光混床是設置于EDI系統之后,對水進一步純化的水處理設備,一般拋光混床可分成一拋光混床和二拋光混床,一拋光混床將EDI的產水再凈化使水質電阻達 16?MΩ以上,二拋光混床是一拋光混床產水進行再拋光, 使水質電阻率達18MΩ以上。
設計壓力?:?0.6Mpa
運行流速?: 一:30m/h,二:36m/h
設備出力?: 一:6m3/h,二:4.5m3/h
產水水質?: 一:電導度≤0.053μS/cm,電阻≥16MΩ ;二:電導度≤0.053μS/cm,電阻≥18MΩ
產水水質高且水質穩定, 短時間運行條件變化(如進水水質或組分,運行流量等)對混床水質影響不大。
間斷運行對產水水質影響小,恢復到停運前的活水水質所需時間短。
交換終點明顯。